IPC분류정보
| 국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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| 국제특허분류(IPC8판) |
- C09K-013/06
- C09K-013/08
- H01L-021/02
- H01L-021/768
- H01L-029/51
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| 출원번호 |
10-2017-0064882
(2017-05-25)
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| 공개번호 |
10-2018-0058610
(2018-06-01)
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| 등록번호 |
10-2424391-0000
(2022-07-15)
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| 우선권정보 |
대한민국(KR) 1020160157440 (2016-11-24) |
| DOI |
http://doi.org/10.8080/1020170064882
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발명자
/ 주소 |
- 이진우
/ 경기도 화성시 동탄지성로 **, ***동 ***호 (반송동, 동탄시범한빛마을 동탄아이파크)
- 김건영
/ 경기도 성남시 분당구 장안로**번길 *, C동 ****호 (분당동, 분당풍림아이원)
- 한훈
/ 경기도 안양시 동안구 귀인로 ***, ***동 ****호 (평촌동, 초원대림아파트)
- 박재완
/ 대구광역시 중구 달구벌대로 ****, ***동 ****호 (대신동, 대신센트럴자이)
- 이진욱
/ 세종특별자치시 마음로 **, ***동 ***호 (고운동, 가락마을*단지)
- 임정훈
/ 대전광역시 대덕구 송촌로**번길 **, ***호 (송촌동)
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| 출원인 / 주소 |
- 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
- 솔브레인 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 판교로***번길 ** (삼평동,솔브레인)
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 |
있음 (2020-05-06) |
| 심사진행상태 |
등록결정(일반) |
| 법적상태 |
등록 |
초록
식각 조성물은 무기산과, 실록산 화합물과, 암모늄계 화합물과, 용매를 포함하고, 상기 실록산 화합물은 다음 일반식 (I)로 표시된다. 일반식 (I)집적회로 소자를 제조하기 위하여, 기판 상에 산화막 및 질화막이 노출된 표면을 가지는 구조물을 형성하고, 일반식 (I)의 식각 조성물을 구조물에 접촉시켜 상기 산화막 및 상기 질화막 중 상기 질화막을 선택적으로 제거한다.
대표청구항
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무기산과, 실록산 화합물과, 암모늄계 화합물과, 용매를 포함하고, 상기 실록산 화합물은 다음 일반식 (I)로 표시되는 것을 특징으로 하는 식각 조성물. 일반식 (I)일반식 (I)에서, m은 0 내지 5의 정수이고, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, 및 R8은 각각 독립적으로 수소 원자, C1-C20의 알킬기, C2-C20의 알케닐기, C2-C20의 알키닐기, C1-C20의 히드록시알킬기, 포스페이트기, 설페이트기, 니트릴기, 카르복실기, 또는 다음 일반식 (II)로 표시되는 치환기이고, 일반식 (II)일반식 (II)
무기산과, 실록산 화합물과, 암모늄계 화합물과, 용매를 포함하고, 상기 실록산 화합물은 다음 일반식 (I)로 표시되는 것을 특징으로 하는 식각 조성물. 일반식 (I)일반식 (I)에서, m은 0 내지 5의 정수이고, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, 및 R8은 각각 독립적으로 수소 원자, C1-C20의 알킬기, C2-C20의 알케닐기, C2-C20의 알키닐기, C1-C20의 히드록시알킬기, 포스페이트기, 설페이트기, 니트릴기, 카르복실기, 또는 다음 일반식 (II)로 표시되는 치환기이고, 일반식 (II)일반식 (II)에서, n은 0 내지 5의 정수이고, R9, R10, 및 R11은 각각 독립적으로 수소 원자, C1-C20의 알킬기, C2-C20의 알케닐기, C2-C20의 알키닐기, C1-C20의 히드록시알킬기, 포스페이트기, 설페이트기, 니트릴기, 또는 카르복실기임.
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