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식각 조성물, 실리콘 질화막의 식각 방법, 및 반도체 소자의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C09K-013/06
  • H01L-021/306
  • H01L-021/3213
  • H01L-021/768
출원번호 10-2017-0147532 (2017-11-07)
공개번호 10-2019-0051656 (2019-05-15)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170147532
발명자 / 주소
  • 한훈 / 경기 안양시 동안구 평촌동 귀인로 *** 초원대림아파트 ***동 ****호
  • 배상원 / 경기도 수원시 팔달구 장다리로***번길 ** (인계동, 신반포아파트) ***동 ***호
  • 홍영택 / 경기도 화성시 동탄반석로 *** 우미린 ***-****
  • 박재완 / 세종특별자치시 시청대로 *** ****-****(보람동, 호려울 마을 **단지)
  • 이진욱 / 세종특별자치시 마음로 ** ***-***(고운동, 가락마을 *단지)
  • 임정훈 / 대전광역시 대덕구 송촌로**번길 **, ***호 (송촌동, 공원주택)
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
  • 솔브레인 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 판교로***번길 ** (삼평동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 고려
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명에 따르면, 식각 조성물, 실리콘 질화막의 식각 방법, 및 반도체 소자의 제조 방법이 제공된다. 식각 조성물은 인산; 암모늄계 화합물; 염산 및 폴리인산염계 화합물 중에서 적어도 하나; 및 실리콘 함유 화합물을 포함할 수 있다.

대표청구항

인산; 암모늄계 화합물; 염산 및 폴리인산염계 화합물 중에서 적어도 하나; 및아래의 화학식 2로 표시되는 실리콘 함유 화합물을 포함하는 식각 조성물. [화학식 2]화학식 2에서, R2는 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 아미노 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 아미노 알콕시기, 및 탄소수 1 내지 10의 알콕시 아미노기 중에서 선택된 어느 하나이고, R3, R4, 및 R5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 아미노 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 아미노 알콕시기

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 식각용 조성물 및 이를 이용하는 반도체 기억 소자의 형성 방법 | 홍영택, 임정훈, 이진욱, 정찬진, 한훈, 박재완, 박성환, 이양화, 윤병문, 엄대홍, 배상원, 정지훈, 김경현, 김경환, 문창섭, 차세호, 고용선
  2. [한국] 실리콘 질화막 식각 용액 | 유호성, 한승현, 장욱, 김용일
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