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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0160362 (2017-11-28) | |
공개번호 | 10-2019-0061704 (2019-06-05) | |
등록번호 | 10-2435693-0000 (2022-08-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170160362 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-05-25) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 출원은 공간 분할형의 원자층 증착장치로서, 공간 분할형의 수직구조로 이루어진 진공 챔버를 포함하고, 상기 진공 챔버의 최상부에는, 원자층 증착이 수행되는 입자(particle) 형태의 물질이 상기 진공 챔버의 최하단으로 자유낙하 하도록 구비된 피증착물질 제공부가 구비되고, 상기 진공 챔버는 전구체가 공급되는 제1 공정 챔버 영역, 퍼지가스(purge gas)가 공급되는 제2 공정 챔버 영역, 반응가스가 공급되는 제3 공정 챔버 영역 및 퍼지가스(purge gas)가 공급되는 제4 공정 챔버 영역을 순차적으로 수직방향으로 포함하며
공간 분할형의 원자층 증착장치로서,공간 분할형의 수직구조로 이루어진 진공 챔버를 포함하고,상기 진공 챔버의 최상부에는, 원자층 증착이 수행되는 입자(particle) 형태의 물질이 상기 진공 챔버의 최하단으로 자유낙하 하도록 구비된 피증착물질 제공부가 구비되고,상기 진공 챔버는 전구체가 공급되는 제1 공정 챔버 영역, 퍼지가스(purge gas)가 공급되는 제2 공정 챔버 영역, 반응가스가 공급되는 제3 공정 챔버 영역 및 퍼지가스(purge gas)가 공급되는 제4 공정 챔버 영역을 순차적으로 수직방향으로 포함하며,상기 순차적으로
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