[특허]원자층 증착 장치 및 이의 제어방법

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원자층 증착 장치 및 이의 제어방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C23C-016/455 C23C-016/04 C23C-016/54
출원번호	10-2019-0003220 (2019-01-10)
공개번호	10-2020-0086884 (2020-07-20)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020190003220
발명자 / 주소	이은정 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학기술연구원 김기환 / 대전광역시 유성구 문지로 * LG화학기술연구원
출원인 / 주소	주식회사 엘지화학 / 서울특별시 영등포구 여의대로 *** (여의도동)
대리인 / 주소	특허법인다나
법적상태	공개

초록

본 발명은 원자층 증착 장치 및 이의 제어방법에 관한 것으로, 본 발명은 주행 중 기재 내부로 가스 침투 시간을 충분히 확보함과 동시에 가스 소모량을 줄일 수 있는 원자층 증착 장치 및 이의 제어방법을 제공한다.

대표청구항 ▼

기재가 주행할 때, 기재 상에 제1 전구체 가스가 공급되도록 마련된 제1 전구체 공급영역, 제1 전구체 공급영역을 통과한 기재 상에 퍼지 가스를 공급하도록 마련된 제1 퍼지 가스 공급영역, 및 제1 퍼지 가스 공급영역을 통과한 기재 상에 제2 전구체 가스를 공급하도록 마련된 제2 전구체 공급영역 및 제2 전구체 공급영역을 통과한 기재 상에 퍼지 가스를 공급하도록 마련된 제2 퍼지 가스 공급영역을 포함하는 증착부;증착부를 통과하도록 기재를 주행시키기 위한 이송부; 및제1 및 제2 전구체 공급영역 중 적어도 하나의 공급영역에 배치되며,

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 현상 장치 및 회로 기판의 제조 방법 | 나카야마 타쿠야, 호리우치 켄
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[일본] ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS, AND ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD | KANO MITSURU
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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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