초록 ▼

[과제]본 발명의 목적은, 비수 전해액 전지의 성능 향상에 유효한 첨가제인 디플루오로인산리튬을, 불순물의 혼입을 줄이면서, 공업적으로 제조하는 방법을 제공하는 것이다.[해결 수단]LiPF6과, 물과, 이하의 일반식 (1)로 나타내어지는 할로겐화물을 비수 용매 중에서 반응시키는 반응 공정과, 반응 공정 후의 용액에 불화수소를 첨가하는 첨가 공정과, 첨가 공정 후의 용액을 탈기 처리하는 탈기 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 디플루오로인산리튬의 제조 방법을 이용한다.(일반식 (1) 중, R은 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 헤테로

[과제]본 발명의 목적은, 비수 전해액 전지의 성능 향상에 유효한 첨가제인 디플루오로인산리튬을, 불순물의 혼입을 줄이면서, 공업적으로 제조하는 방법을 제공하는 것이다.[해결 수단]LiPF6과, 물과, 이하의 일반식 (1)로 나타내어지는 할로겐화물을 비수 용매 중에서 반응시키는 반응 공정과, 반응 공정 후의 용액에 불화수소를 첨가하는 첨가 공정과, 첨가 공정 후의 용액을 탈기 처리하는 탈기 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 디플루오로인산리튬의 제조 방법을 이용한다.(일반식 (1) 중, R은 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 헤테로 원자나 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기(탄소수가 3 이상인 경우에 있어서는, 분기 쇄 또는 환상 구조의 것도 사용할 수 있음)이다.X는 각각 독립적으로, Cl, Br 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나이다.p는 1∼3의 정수, q는 1∼3의 정수를 각각 나타내고, p + q = 4이다)

대표청구항 ▼

LiPF6과, 물과, 이하의 일반식 (1)로 나타내어지는 할로겐화물을 비수 용매 중에서 반응시켜 디플루오로인산리튬을 생성시키는 반응 공정과,반응 공정 후의 용액에, 불화수소를 첨가하는 첨가 공정과,첨가 공정 후의 용액을 탈기 처리하는 탈기 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 디플루오로인산리튬의 제조 방법.(일반식 (1) 중, R은 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 헤테로 원자나 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기(탄소수가 3 이상인 경우에 있어서는, 분기 쇄 또는 환상 구조의 것도 사용할 수 있음)이다.X는 각각 독립적으로

LiPF6과, 물과, 이하의 일반식 (1)로 나타내어지는 할로겐화물을 비수 용매 중에서 반응시켜 디플루오로인산리튬을 생성시키는 반응 공정과,반응 공정 후의 용액에, 불화수소를 첨가하는 첨가 공정과,첨가 공정 후의 용액을 탈기 처리하는 탈기 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 디플루오로인산리튬의 제조 방법.(일반식 (1) 중, R은 각각 독립적으로, 탄소수 1∼10의 헤테로 원자나 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기(탄소수가 3 이상인 경우에 있어서는, 분기 쇄 또는 환상 구조의 것도 사용할 수 있음)이다.X는 각각 독립적으로, Cl, Br 및 I로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나이다.p는 1∼3의 정수, q는 1∼3의 정수를 각각 나타내고, p + q = 4이다)