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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0174360 (2017-12-18) | |
공개번호 | 10-2019-0073064 (2019-06-26) | |
등록번호 | 10-2525162-0000 (2023-04-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170174360 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-11-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 기술적 사상은 코너 라운딩(corner rounding) 현상을 효과적으로 제어할 수 있는 OPC 방법, 및 그 OPC 방법을 이용한 마스크 제조방법을 제공한다. 그 OPC 방법은 레이아웃의 분해를 통해 내부-에지를 생성하고, 그러한 내부-에지를 기반으로 하여, 내부 프래그먼트의 이동량인 DISin_frag와 선택 프래그먼트의 이동량인 DISsel을 계산하여 프래그먼트를 추가적으로 이동시킴으로써, MRC를 위배하지 않으면서도 코너 라운딩 현상을 최소화한 마스크 레이아웃을 구현할 수 있도록 한다.
타겟 패턴에 대한 레이아웃의 에지를 프래그먼트(fragment)로 나누는 단계;OPC(Optical Proximity Correction) 모델에 상기 프래그먼트를 포함한 마스크 데이터를 입력하여 시뮬레이션을 통해 상기 타겟 패턴의 컨투어(contour)를 추출하는 단계;상기 컨투어와 상기 타겟 패턴의 에지 간의 차이인 EPE(Edge Placement Error)를 상기 프래그먼트 별로 계산하는 단계; 및상기 타겟 패턴의 컨투어를 추출하는 단계의 재수행 여부를 판단하는 단계;를 포함하고,상기 타겟 패턴의 컨투어를 추출하는 단계를
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