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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-7012100 (2017-05-02) | |
공개번호 | 10-2017-0063933 (2017-06-08) | |
등록번호 | 10-2391793-0000 (2022-04-25) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2014-204957 (2014-10-03) | |
국제출원번호 | PCT/JP2015/004952 (2015-09-29) | |
국제공개번호 | WO 2016/051781 (2016-04-07) | |
번역문제출일자 | 2017-05-02 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020177012100 | |
발명자 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-05-13) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명에 관련된 관통 전극이 달린 유리 기판의 제조 방법은, 유리 기판(10)에 레이저를 조사함으로써 변질부를 형성하고, 유리 기판(10)의 한쪽의 주면에, 변질부(12)의 위치에 따라 제1 도전부(20a)를 형성하고, 에칭액을 이용하여 적어도 변질부(12)를 에칭함으로써, 제1 도전부를 형성한 후에, 유리 기판(10)에 관통 구멍(14)을 형성한다.이것에 의해, 유리 기판에 회로 등 도전부를 형성할 때 유리 기판의 취급의 용이함이 확보되고, 또한, 유리 기판에 형성된 회로 등의 도전부의 손상을 억제하면서 비교적 단시간에 유리 기
유리 기판에 레이저를 조사함으로써, 상기 유리 기판의 레이저가 조사된 부분에 변질부를 형성하는 변질부 형성 공정과, 상기 변질부가 형성된 상기 유리 기판의 한쪽의 주면에, 상기 변질부의 위치에 따라 제1 도전부를 형성하는 제1 도전부 형성 공정과, 상기 유리 기판의 상기 변질부가 형성되어 있지 않은 부분에 대한 에칭 레이트보다 상기 변질부에 대한 에칭 레이트가 큰 에칭액을 이용하여 적어도 상기 변질부를 에칭함으로써, 상기 제1 도전부 형성 공정 후에, 상기 유리 기판에 관통 구멍을 형성하는 관통 구멍 형성 공정과, 상기 관통 구멍의
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