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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0017795 (2018-02-13) | |
등록번호 | 10-1903026-0000 (2018-09-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180017795 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-02-13) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
플라즈마를 피처리수에 접촉하고 안정적으로 장시간 피처리수를 정화하고, 수처리 플라즈마 발생 장치의 수율을 높이기 위한 수처리 플라즈마 발생 장치를 제공하고자 한다.본 발명의 실시예에 따른 수처리 플라즈마 발생 장치는 외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체, 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체, 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고 관통홀을 통과한 소스 가스에 의해 외부유전체에서 피처리수를 향한 방향으로 플라즈
외면에 관통홀이 형성되고 소스 가스가 주입되고 피처리수에 위치하는 외부유전체,상기 외부유전체의 내부에 위치하는 내부유전체,상기 내부유전체의 내부에 위치하고 유연성을 가지는 제1 유연전극, 그리고상기 제1 유연전극에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고상기 관통홀을 통과한 상기 소스 가스에 의해 상기 외부유전체에서 상기 피처리수를 향한 방향으로 플라즈마가 발생되고, 상기 플라즈마는 상기 피처리수를 정화하고상기 피처리수는 접지 전극이고 상기 제1 유연전극은 상기 피처리수와 회로를 구성하고, 상기 전원공급부가 상기 제1 유연전극에 전원을
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