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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0018497 (2018-02-14) | |
등록번호 | 10-1994035-0000 (2019-06-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180018497 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-02-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 인간 전분화능 줄기세포(hPSC)를 마트리겔(Matrigel)로 코팅된 배양용 배지에 분주하여 배양하는 배양 단계; 상기 배양 단계를 거친 인간 전분화능 줄기세포(hPSC)를 인슐린이 배제된 B27 및 wnt신호 활성제를 포함하는 중배엽 유도용 배지에서 배양하여 상기 배양 단계를 거친 인간 전분화능 줄기세포를 중배엽 유도시키는 중배엽 유도 단계; 상기 중배엽 유도 단계를 거친 세포를 인슐린이 배제된 B27을 포함하는 분화용 배지로 교체 분주하여 배양하는 중배엽 유도 후 분화 단계; 상기 중배엽 유도 후 분화 단계를 거친
인간 전분화능 줄기세포(hPSC, human Pluripotent Stem Cell)를 마트리겔(Matrigel)로 코팅된 배양용 배지에 분주하여 배양하는 배양 단계;상기 배양 단계를 거친 인간 전분화능 줄기세포(hPSC)를 인슐린이 배제된 B27 및 wnt신호 활성제를 포함하는 중배엽 유도용 배지에서 배양하여 상기 배양 단계를 거친 인간 전분화능 줄기세포를 중배엽 유도시키는 중배엽 유도 단계;상기 중배엽 유도 단계를 거친 세포를 인슐린이 배제된 B27을 포함하는 분화용 배지로 교체 분주하여 배양하는 중배엽 유도 후 분화 단계;상기
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