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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0096702 (2018-08-20) | |
공개번호 | 10-2020-0021215 (2020-02-28) | |
등록번호 | 10-2150945-0000 (2020-08-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180096702 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-08-20) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 결정성이 제어된 지르코니아 입자를 포함한 연마재 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 연마재는 사파이어 웨이퍼의 연마 및 평탄화 공정에서 성능과 효율을 상당히 개선시킬 수 있고, 표면의 결함을 줄이는 동시에 높은 물질 제거율과 함께 우수한 평탄도를 달성할 수 있다.또한 본 발명에 따른 연마재를 이용하여 연마할 경우, 투스텝(Two Step)의 CMP 공정을 원스텝(One Step) 공정으로 간소화할 수 있어, 투자 및 재료 원가를 절감시킬 수 있다.
정방정계(Tetragonal) 결정구조로 이루어지고, 평균 입경이 3 내지 15 nm의 범위 내이며, 이트리아(Y203), 산화칼슘(CaO), 마그네시아(MgO), 알루미나(Al2O3), 산화하프늄(HfO2) 및 세리아(CeO2) 중 1종 이상으로 도핑된 지르코니아(ZrO2) 입자를 포함한 연마재.
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