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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0117054 (2018-10-01) | |
공개번호 | 10-2019-0038459 (2019-04-08) | |
등록번호 | 10-2599378-0000 (2023-11-02) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020170127681 (2017-09-29) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180117054 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-09-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 식각용 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 상기 식각용 조성물은 제1 무기산 및 제1 첨가제를 포함한다.
제1 무기산; 및디실란테트라클로로(Disilane tetrachloro), 디실란 1,1,2-트리메톡시(Disilane 1,1,2-trimethoxy) 및 옥타클로로트리실란(Octachlorotrisilane)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 제1 첨가제를 포함하는, 식각용 조성물.
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