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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0163226 (2018-12-17) | |
공개번호 | 10-2020-0074623 (2020-06-25) | |
등록번호 | 10-2135775-0000 (2020-07-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180163226 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2018-12-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 내부에 기판이 공급되는 프로세스 챔버; 상기 프로세스 챔버 상부에 배치되는 클러스터 소스; 상기 클러스터 소스 측벽에 구비되어 상기 클러스터 소스 주변을 냉각시키는 제1냉각부; 상기 클러스터 소스 하부에 결합되어 상기 프로세스 챔버 내부에 위치하며, 적어도 하나 또는 복수개 구비된 통공을 포함하는 노즐; 상기 클러스터 소스 상부에 배치되어 스퍼터링을 수행하며, 하부에 캐소드의 타깃이 구비되는 스퍼터 건; 및 상기 스퍼터 건 하부에 결합되어 상기 타깃 주변을 냉각시키는 제2냉각부를 포함하는 것을 특징으로 하는 클러스터 소스
클러스터 소스를 이용한 나노 포러스 막 형성 공정이 수백 mTorr에서 수 Torr 범위의 높은 압력조건에서 진행되는 클러스터 소스 장치에 관한 것으로,내부에 기판이 공급되는 프로세스 챔버;상기 프로세스 챔버 상부에 배치되는 클러스터 소스;상기 클러스터 소스 측벽에 구비되어 상기 클러스터 소스 주변을 냉각시키는 제1냉각부;상기 클러스터 소스 하부에 결합되어 상기 프로세스 챔버 내부에 위치하며, 적어도 하나 또는 복수개 구비된 통공을 포함하는 노즐;상기 클러스터 소스 상부에 배치되어 스퍼터링을 수행하며, 하부에 캐소드의 타깃이 구비되
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