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연합인증

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양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08G-081/02
  • C08G-071/02
  • C08J-003/20
  • C08J-007/04
  • C08K-003/04
  • C08K-003/22
  • C08L-025/06
  • C08L-033/12
출원번호 10-2018-0165036 (2018-12-19)
공개번호 10-2020-0076180 (2020-06-29)
등록번호 10-2154264-0000 (2020-09-03)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180165036
발명자 / 주소
  • 성대경 / 세종특별자치시 다정남로 **, ***동 ****호 (다정동, 가온마을*단지)
  • 나윤희 / 인천광역시 부평구 경원대로 ****, ***동 ***호 (산곡동, 현대아파트)
  • 우지섭 / 충청북도 청주시 흥덕구 가경로***번길 **-*, *층 (가경동)
출원인 / 주소
  • 한국세라믹기술원 / 경상남도 진주시 소호로 *** (충무공동, 부속건물세라믹소재종합지원센터)
대리인 / 주소
  • 특허법인아이피매그나
심사청구여부 있음 (2019-01-23)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 분산도가 향상된 소수성 비드를 제조하기 위한, 고정화기로서 도데실 그룹, 및 기능기로서 PEG 그룹을 갖는 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다.

대표청구항

A) 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group), 및 B) 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 갖는 소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자로서, 상기 도데실 그룹 및 PEG 그룹의 몰비는 1:1이고,상기 소수성 비드와 양친매성 고분자의 농도 비율은 4:1 내지 8:1이고, 상기 소수성 비드는 풀러렌(Fullerene), PS/PMMA(polystyrene-polymethylmethacrylate), QD(Quantum dot), CNT(Carbon nanotube) 또는 그래

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 양친매성 화합물을 이용한 자성 나노복합체의 제조방법 | 함승주, 서진석, 허용민, 윤호근, 양재문
  2. [한국] 다기능성 고분자막 및 그의 용도 | 전상용, 박상진, 성대경, 양해식
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