최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2018-0165036 (2018-12-19) | |
공개번호 | 10-2020-0076180 (2020-06-29) | |
등록번호 | 10-2154264-0000 (2020-09-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180165036 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2019-01-23) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 분산도가 향상된 소수성 비드를 제조하기 위한, 고정화기로서 도데실 그룹, 및 기능기로서 PEG 그룹을 갖는 양친매성 고분자를 이용한 소수성 비드의 표면 개질 방법에 관한 것이다.
A) 고정화기로서 도데실 그룹(dodecyl group), 및 B) 기능기로서 PEG 그룹(Polyethylene glycol moiety)을 갖는 소수성 비드의 표면 개질을 위한 양친매성 고분자로서, 상기 도데실 그룹 및 PEG 그룹의 몰비는 1:1이고,상기 소수성 비드와 양친매성 고분자의 농도 비율은 4:1 내지 8:1이고, 상기 소수성 비드는 풀러렌(Fullerene), PS/PMMA(polystyrene-polymethylmethacrylate), QD(Quantum dot), CNT(Carbon nanotube) 또는 그래
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.