초록

챔버(1)와, 챔버(1) 내에서 피처리 기판(W)을 유지하는 스테이지(4)와, 피처리 기판(W)에 가스 클러스터를 조사하는 노즐부(13)를 갖고, 가스 클러스터에 의해 피처리 기판(W)을 처리하는 기능을 갖는 기판 처리 장치에 있어서, 챔버(1) 내부를 클리닝할 때에, 챔버(1) 내에 미리 정해진 반사 부재(dW, 60)를 설치하고, 반사 부재(dW, 60)에 가스 클러스터(C)를 조사하며, 반사 부재(dW, 60)에서 반사된 기류를 챔버(1)의 벽부에 접촉시켜, 챔버(1)의 벽부에 부착된 파티클(P)을 제거한다.

대표청구항 ▼

챔버와, 상기 챔버 내에서 피처리 기판을 유지하는 스테이지와, 상기 피처리 기판에 가스 클러스터를 조사(照射)하는 노즐부를 갖고, 상기 가스 클러스터에 의해 상기 피처리 기판을 처리하는 기능을 갖는 기판 처리 장치로서, 상기 챔버 내부를 클리닝하는 기판 처리 장치의 챔버 클리닝 방법에 있어서, 상기 챔버 내에 미리 정해진 반사 부재를 설치하는 것과, 기류를 생성하기 위해 상기 반사 부재에 가스 클러스터를 조사하고, 상기 반사 부재에서 반사된 기류를 상기 챔버의 벽부에 접촉시켜, 상기 챔버의 벽부에 부착된 파티클을 제거하는 것을 포함

챔버와, 상기 챔버 내에서 피처리 기판을 유지하는 스테이지와, 상기 피처리 기판에 가스 클러스터를 조사(照射)하는 노즐부를 갖고, 상기 가스 클러스터에 의해 상기 피처리 기판을 처리하는 기능을 갖는 기판 처리 장치로서, 상기 챔버 내부를 클리닝하는 기판 처리 장치의 챔버 클리닝 방법에 있어서, 상기 챔버 내에 미리 정해진 반사 부재를 설치하는 것과, 기류를 생성하기 위해 상기 반사 부재에 가스 클러스터를 조사하고, 상기 반사 부재에서 반사된 기류를 상기 챔버의 벽부에 접촉시켜, 상기 챔버의 벽부에 부착된 파티클을 제거하는 것을 포함하는 기판 처리 장치의 챔버 클리닝 방법.