초록 ▼

본 발명은, 특히 반도체 제품들, 웨이퍼들, 이와 유사한 것을 수용하고 취급하기 위한 캐리어 플레이트(10,13,16,22,29)를 제조하는 방법으로서, 탄소섬유들로 제조된 직조섬유층들이 스택을 형성하도록 배치되고, 상기 직조섬유층들은 수지로 함침되고, 상기 수지는 경화되고 열분해되며, 이어서 상기 스택은 흑연화되며, 상기 스택의 제1직조섬유층은 12K 이상의 필라멘트 실들을 가지는 제1직조섬유로 형성되고, 상기 스택의 제2직조섬유층은 6K 이하의 필라멘트 실들을 가지는 제2직조섬유로 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 플레이트의 제

본 발명은, 특히 반도체 제품들, 웨이퍼들, 이와 유사한 것을 수용하고 취급하기 위한 캐리어 플레이트(10,13,16,22,29)를 제조하는 방법으로서, 탄소섬유들로 제조된 직조섬유층들이 스택을 형성하도록 배치되고, 상기 직조섬유층들은 수지로 함침되고, 상기 수지는 경화되고 열분해되며, 이어서 상기 스택은 흑연화되며, 상기 스택의 제1직조섬유층은 12K 이상의 필라멘트 실들을 가지는 제1직조섬유로 형성되고, 상기 스택의 제2직조섬유층은 6K 이하의 필라멘트 실들을 가지는 제2직조섬유로 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 플레이트의 제조방법 및 캐리어 플레이트를 제공한다.

대표청구항 ▼

반도체 제품들, 웨이퍼들, 이와 유사한 것을 수용하고 취급하기 위한 캐리어 플레이트(10,13,16,22,29)를 제조하는 방법으로서, 탄소섬유들로 제조된 직조섬유층들이 스택을 형성하도록 배치되고, 상기 직조섬유층들은 수지로 함침되고, 상기 수지는 경화되고 열분해되며, 이어서 상기 스택은 흑연화되며,상기 스택의 제1직조섬유층은 12K 이상의 필라멘트 실들을 가지는 제1직조섬유로 형성되고, 상기 스택의 제2직조섬유층은 6K 이하의 필라멘트 실들을 가지는 제2직조섬유로 형성되며, 상기 스택은 반도체 제품을 수용하기 위해 리세스(12,2

반도체 제품들, 웨이퍼들, 이와 유사한 것을 수용하고 취급하기 위한 캐리어 플레이트(10,13,16,22,29)를 제조하는 방법으로서, 탄소섬유들로 제조된 직조섬유층들이 스택을 형성하도록 배치되고, 상기 직조섬유층들은 수지로 함침되고, 상기 수지는 경화되고 열분해되며, 이어서 상기 스택은 흑연화되며,상기 스택의 제1직조섬유층은 12K 이상의 필라멘트 실들을 가지는 제1직조섬유로 형성되고, 상기 스택의 제2직조섬유층은 6K 이하의 필라멘트 실들을 가지는 제2직조섬유로 형성되며, 상기 스택은 반도체 제품을 수용하기 위해 리세스(12,23,30)를 형성하도록 기계 가공되고, 기계 가공은 적어도 상기 제2직조섬유의 평면(20)에서 발생하는 것을 특징으로 하는 캐리어 플레이트의 제조방법.