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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2019-0067181 (2019-06-07) | |
| 등록번호 | 10-2071688-0000 (2020-01-22) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020190067181 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2019-06-07) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 티올기와, 하이드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 양자점 리간드용 화합물이 표면에 결합되어 형성된 리간드를 포함하는 양자점 입자, 상기 양자점 입자를 포함하는 양자점 입자 조성물, 및 상기 화학식 1의 화합물의 제조방법을 제공한다.
하기 화학식 1로 표시되는 티올기와 하이드록시기를 포함하는 양자점 리간드용 화합물이 표면에 결합되어 형성된 리간드;하기 화학식 1로 표시되는 티올기와 카르복시기를 포함하는 양자점 리간드용 화합물이 표면에 결합되어 형성된 리간드;및 비공유 전자쌍을 보유하여 양자점 입자에 배위 결합되는 카르복실 작용기, 티올 작용기, 인을 포함한 작용기, 아민 작용기, 및 암모늄염 작용기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 작용기 및 상기 작용기에 결합된 탄소수 1~20의 탄화수소 체인으로 이루어진 리간드;를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점
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