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연합인증

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인듐 회수 및 고도화 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C22B-058/00
  • C22B-003/04
출원번호 10-2019-0077051 (2019-06-27)
공개번호 10-2021-0001244 (2021-01-06)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190077051
발명자 / 주소
  • 정병조 / 대전광역시 중구 계룡로 ***, ***동 ***호 (문화동, 하우스토리*차)
  • 이호세 / 대전광역시 유성구 문지로 ***, ***동 ***호 (문지동, 효성해링턴플레이스)
  • 신의철 / 경기도 성남시 분당구 모두마니로*번길 **, ***호 (대장동, 그린힐)
출원인 / 주소
  • 하이퍼나인 주식회사 / 대전광역시 유성구 과학로 ***-*** ,연구*동*층***호(어은동,한국기초과학지원연구원,국가핵융합연구소)
대리인 / 주소
  • 이성원
심사청구여부 있음 (2019-06-27)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 인듐함유 공정스크랩의 일종인 구리칩(Cu-chip)으로부터 인듐을 회수하는 단계; 회수된 인듐을 양극으로하여 전기분해하여 인듐의 순도를 고도화하는 1차 고도화 단계; 및 1차 고도화된 인듐을 일방향응고 공정에 의하여 인듐의 순도를 고도화하는 2차 고도화 단계를 포함하는 인듐 회수 및 고도화 방법을 제공한다. 상기 방법에 따르면 인듐의 회수율이 매우 높고, 6N급으로 고순도화된 인듐을 용이하게 확보할 수 있다.

대표청구항

인듐함유 공정스크랩의 일종인 구리칩(Cu-chip)으로부터 인듐을 회수하는 단계;회수된 인듐을 양극으로하여 전기분해하여 인듐의 순도를 고도화하는 1차 고도화 단계; 및1차 고도화된 인듐을 일방향응고 공정에 의하여 인듐의 순도를 고도화하는 2차 고도화 단계를 포함하는 인듐 회수 및 고도화 방법.

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 인듐 회수 방법 | 심유상, 강희남, 서동환, 장세훈, 김대원
  2. [일본] METHOD OF REFINING METAL | KOBAYASHI SEIJI, YAMAMOTO KAZUTOMI
  3. [일본] METHOD OF REFINING INDIUM OR INDIUM ALLOY | SHINDO YUICHIRO, TAKEMOTO KOICHI, KONAKA MITSUYUKI
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