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연합인증

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웨이퍼 레벨 전사를 이용한 중/소형 디스플레이의 대량 제조방법 및 대형 디스플레이 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-027/15
  • H01L-027/12
  • H01L-033/00
출원번호 10-2019-0079451 (2019-07-02)
공개번호 10-2021-0003542 (2021-01-12)
등록번호 10-2243109-0000 (2021-04-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190079451
발명자 / 주소
  • 조용훈 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
  • 박상희 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
  • 심영출 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
  • 남윤용 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
출원인 / 주소
  • 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 무한
심사청구여부 있음 (2019-07-02)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은, 웨이퍼 레벨 전사를 이용한 중/소형 디스플레이의 대량 제조방법 및 대형 디스플레이에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 웨이퍼 레벨의 마이크로-LED 어레이를 제조하는 단계; 상기 복수개의 웨이퍼 레벨의 마이크로-LED 어레이를 웨이퍼 레벨 전사 공정으로 디스플레이 기판 상에 전사하는 단계; 상기 전사된 마이크로-LED 어레이 상에 평탄층을 형성하여 평탄화하는 단계; 상기 평탄층에 비아홀을 형성하는 단계; 및 상기 평탄화된 마이크로-LED 어레이 상에 TFT 어레이를 배열 및 증착하여 마이크로-LED 어레이와 TFT 어레이

대표청구항

디스플레이의 제조방법으로서,상기 제조방법은:웨이퍼 레벨의 마이크로-LED 어레이를 제조하는 단계; 복수개의 웨이퍼 레벨의 마이크로-LED 어레이를 웨이퍼 레벨 전사 공정으로 디스플레이 기판 상에 전사하는 단계; 상기 전사된 복수개의 마이크로-LED 어레이 상에 평탄층을 형성하여 평탄화하는 단계;상기 평탄층에 비아홀을 형성하는 단계; 및 상기 평탄화된 복수개의 마이크로-LED 어레이 상에 TFT 어레이 제작용 박막들의 증착 및 형태 형성 공정을 TFT 어레이를 배열 및 증착하여 마이크로-LED 어레이와 TFT 어레이를 집적하는 단계;

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치 | 김선옥, 여환국
  2. [한국] 표시 장치 및 이의 제조 방법 | 이상열, 김청송, 문지형, 박선우, 송준오, 한명호
  3. [미국] METHOD OF INTEGRATING INORGANIC LIGHT EMITTING DIODE WITH OXIDE THIN FILM TRANSISTOR FOR DISPLAY APPLICATIONS | Ghosh, Amalkumar P.
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