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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0080511 (2019-07-04) | |
공개번호 | 10-2021-0005391 (2021-01-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190080511 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 금속 잔사 제거용 세정제 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 금속 잔사는 물론 세정 대상의 표면 오염물에 대하여 우수한 세정력을 제공할 수 있고 동시에 세정 대상에 대한 손상을 야기하지 않아 후속되는 공정수율을 향상시킴으로써, 매우 경제적인 방법으로 신뢰성 높은 반도체소자를 제공할 수 있다.
물; 킬레이트제; 알칼리제; 및아세트산아연, 질산아연, 탄산아연, 황산아연, 옥살산아연 및 이들의 조합에서 선택되는 아연염; 을 포함하는 금속 잔사 제거용 세정제 조성물.
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