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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0118940 (2019-09-26) | |
공개번호 | 10-2021-0036662 (2021-04-05) | |
등록번호 | 10-2255936-0000 (2021-05-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190118940 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-09-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 금속 제품의 표면에 경화원소인 질소를 흡착 및 확산시켜 고농도의 질화층을 만들 수 있는 질화 처리 방법에 관한 것으로서, 금속 제품의 질화 처리를 수행할 수 있도록 내부에 처리 공간이 형성되고 상기 처리 공간으로 복수의 반응 가스를 포함하는 처리 가스가 주입되는 반응 챔버를 이용한 질화 처리 방법에 있어서, 상기 금속 제품의 표면이 활성화될 수 있도록 상기 반응 챔버의 내부 온도를 제 1 온도로 상승 후 유지한 상태로 상기 처리 가스를 상기 반응 챔버로 공급하는 전 처리 단계 및 상기 금속 제품의 표면의 활성화 후, 질화
금속 제품의 질화 처리를 수행할 수 있도록 내부에 처리 공간이 형성되고 상기 처리 공간으로 처리 가스로서 암모니아 가스가 주입되는 반응 챔버를 이용한 질화 처리 방법에 있어서,상기 금속 제품의 표면이 활성화될 수 있도록 상기 반응 챔버의 내부 온도를 제 1 온도로 상승 후 유지한 상태로 상기 처리 가스를 상기 반응 챔버로 공급하는 전 처리 단계; 및상기 금속 제품의 표면의 활성화 후, 질화 포텐셜 값이 기준 값에 도달할 때까지 상기 내부 온도를 제 2 온도로 상승시키고, 상기 금속 제품의 표면에 생성되는 화합물층 및 확산층의 두께를
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