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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0119124 (2019-09-26) | |
공개번호 | 10-2021-0036730 (2021-04-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190119124 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 광의 반사를 최소화할 수 있는 광학 기재 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
광경화성 단량체 및 고굴절 입자를 포함하는 광경화성 조성물을 기판 상에 도포하고 건조하여 코팅층을 형성하는 단계; 및일면 상에 패턴이 구비된 몰드를 이용하여 상기 코팅층의 표면을 임프린팅하고 상기 코팅층을 광경화하여, 상기 패턴이 전사된 패턴 구조체를 포함하는 패턴층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 패턴층을 형성하는 단계는,상기 몰드를 가압하는 압력 및 임프린팅 시간 중 적어도 하나를 조절하여, 상기 패턴 구조체에 상기 고굴절 입자를 포함하지 않는 저굴절 영역을 형성하는 광학 기재의 제조 방법.
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