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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0128697 (2019-10-16) | |
공개번호 | 10-2021-0045216 (2021-04-26) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190128697 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 공정챔버용 내부 금속 파트 및 공정챔버용 내부 금속 파트의 박막층 형성 방법에 관한 것으로서, 특히, 디스플레이 또는 반도체 제조 공정에 사용되는 공정챔버에 설치되거나, 공정챔버의 일부를 이루며, 공정챔버용 내부 금속 파트의 박막층의 두꺼운 두께를 쉽게 확보하여 공정챔버용 내부 금속 파트의 크랙 방지를 통한 수명 연장을 달성함과 동시에 포어로 인한 아웃가싱 현상을 방지할 수 있는 공정챔버용 내부 금속 파트 및 공정챔버용 내부 금속 파트의 박막층 형성 방법에 관한 것이다.
금속 모재를 양극산화하여 상기 금속 모재의 상부에 양극산화막층으로 구성되는 제1박막층이 형성되고, 상기 제1박막층의 상부에 제1-1차 전구체를 흡착시키고, 상기 제1-1차 전구체와는 다른 종류의 제1-2차 반응체를 공급하여 상기 제1-2차 반응체와 상기 제1-1차 전구체와의 화학적 치환으로 제1단원자층을 생성시키는 사이클을 반복적으로 수행하여 복수층의 제1단원자층으로 구성되는 제2박막층이 상기 제1박막층의 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 공정챔버용 내부 금속 파트.
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