초록

개시된 이중층 그래핀의 제조 방법은, 촉매 기판을 준비하는 단계, 상기 촉매 기판 위에 탄소 소스를 제공하여 제1 그래핀층을 형성하는 단계, 플라즈마 스퍼터링을 통해 상기 제1 그래핀층에 확산 사이트를 형성하는 단계 및 상기 확산 사이트를 통해 상기 제1 그래핀층과 상기 촉매 기판 사이에 탄소 소스를 제공하여 제2 그래핀층을 형성하는 단계를 포함한다.

대표청구항 ▼

촉매 기판을 준비하는 단계; 상기 촉매 기판 위에 플라즈마 환경에서 탄소 소스를 제공하여 제1 그래핀층을 형성하는 단계; 탄소 소스의 플라즈마 스퍼터링을 통해 상기 제1 그래핀층에 확산 사이트를 형성하는 단계; 및 플라즈마 환경에서 상기 확산 사이트를 통해 상기 제1 그래핀층과 상기 촉매 기판 사이에 탄소 소스를 제공하여 제2 그래핀층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 그래핀층을 형성하는 단계에서 탄소 소스의 유량은 5 sccm 미만이고, 상기 확산 사이트를 형성하는 단계 및 상기 제2 그래핀층을 형성하는 단계에서의 탄소 소스의

촉매 기판을 준비하는 단계; 상기 촉매 기판 위에 플라즈마 환경에서 탄소 소스를 제공하여 제1 그래핀층을 형성하는 단계; 탄소 소스의 플라즈마 스퍼터링을 통해 상기 제1 그래핀층에 확산 사이트를 형성하는 단계; 및 플라즈마 환경에서 상기 확산 사이트를 통해 상기 제1 그래핀층과 상기 촉매 기판 사이에 탄소 소스를 제공하여 제2 그래핀층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 그래핀층을 형성하는 단계에서 탄소 소스의 유량은 5 sccm 미만이고, 상기 확산 사이트를 형성하는 단계 및 상기 제2 그래핀층을 형성하는 단계에서의 탄소 소스의 유량은 5 sccm 이상이고, 상기 제1 그래핀층 및 상기 제2 그래핀층을 형성하는 단계에서는, 적어도 수소 가스를 포함하는 공정 가스가 이용되며, 상기 수소 가스의 유량은 10 sccm 내지 100 sccm인 것을 특징으로 하는 이중층 그래핀의 제조 방법.