초록

본 발명에 따른 신체삽입용 의료기기의 코팅막 증착방법은, 샘플에 대해 전처리를 수행하는 (a)단계, 챔버 내에 수용된 상기 샘플의 표면에 타이타늄(Ti) 및 질화타이타늄(TiN) 코팅막으로 중간층을 형성하는 (b)단계 및 상기 중간층 상에 DLC(Diamond-like Carbon) 코팅막으로 최종층을 형성하는 (c)단계를 포함한다.

대표청구항 ▼

수용공간이 형성된 챔버와, 상기 챔버의 일측에 장착되는 이온빔조사유닛과, 상기 챔버의 타측에 장착되는 스퍼터링유닛과, 중심점을 기준으로 회전 가능하게 구비되는 회전부 및 상기 회전부로부터 수직 방향으로 연장되어 양측에 샘플을 거치할 수 있도록 구비되는 거치부를 포함하는 지그를 포함하는 코팅막 증착장치에 의해 수행되는 코팅막 증착방법에 있어서,상기 샘플에 대해 전처리를 수행하는 (a)단계;상기 챔버 내에 수용된 상기 샘플의 표면에 타이타늄(Ti) 및 질화타이타늄(TiN) 코팅막으로 중간층을 형성하는 (b)단계; 및화학기상증착(CVD)

수용공간이 형성된 챔버와, 상기 챔버의 일측에 장착되는 이온빔조사유닛과, 상기 챔버의 타측에 장착되는 스퍼터링유닛과, 중심점을 기준으로 회전 가능하게 구비되는 회전부 및 상기 회전부로부터 수직 방향으로 연장되어 양측에 샘플을 거치할 수 있도록 구비되는 거치부를 포함하는 지그를 포함하는 코팅막 증착장치에 의해 수행되는 코팅막 증착방법에 있어서,상기 샘플에 대해 전처리를 수행하는 (a)단계;상기 챔버 내에 수용된 상기 샘플의 표면에 타이타늄(Ti) 및 질화타이타늄(TiN) 코팅막으로 중간층을 형성하는 (b)단계; 및화학기상증착(CVD) 방식에 펄스드(Pulsed) 파워 서플라이를 이용하여, 상기 중간층 상에 DLC(Diamond-like Carbon) 코팅막으로 최종층을 형성하는 (c)단계;를 포함하며,상기 (a)단계는,상기 샘플을 아세톤 및 IPA용액을 포함하는 세척용액에 세척하는 (a-1)단계; 및상기 샘플을 챔버에 장입하고, 이온소스를 이용하여 플라즈마 에칭을 수행하는 (a-2)단계;를 포함하고,상기 (b)단계는,스퍼터링 방식을 통해 수행되며, 스퍼터 타겟에 500~700V의 전압을 가하여 5~8x10-3torr에서 증착을 수행하여 상기 중간층을 형성하되, 200~300℃의 온도 분위기에서 30분~1시간 동안 수행되며,상기 (c)단계는,상기 챔버 내에 아세틸렌 가스, 메탄 가스 및 벤젠 가스 중 적어도 어느 하나를 포함하는 처리가스를 400~800sccm의 유량으로 공급하고, 200~400℃의 온도 분위기에서 플라즈마 밀도를 증가시키며, 선형이온원을 이용하여 상기 최종층의 증착을 보조하도록 어시스트 공정을 수행하되, 상기 선형이온원은 1000~1500V의 전압 및 1.0~1.5A의 전류 조건에서 바이어스 전압(Bias Voltage)을 -700V로 설정하여 확산모드로 가동시킴에 따라 상기 최종층을 증착하는,신체삽입용 의료기기의 코팅막 증착방법.