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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-7018638 (2019-06-27) | |
공개번호 | 10-2019-0087590 (2019-07-24) | |
등록번호 | 10-2316409-0000 (2021-10-18) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2016-229880 (2016-11-28) | |
국제출원번호 | PCT/JP2017/038100 (2017-10-23) | |
국제공개번호 | WO 2018/096855 (2018-05-31) | |
번역문제출일자 | 2019-06-27 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020197018638 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-06-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
개시되는 것은, 1,3,3,3-테트라플루오로프로펜과, CHxClyFz(x, y, z는 1 이상의 정수, x+y+z=4)로 나타나는 하이드로클로로플루오로카본을 포함하고, 1,3,3,3-테트라플루오로프로펜에 대한 상기 하이드로클로로플루오로카본의 농도가 3체적ppm 이상 10000체적ppm 미만인 드라이 에칭제 조성물, 및 그것을 이용한 발명이다.본 발명에서는, 반도체 제조 프로세스에 있어서, HFO-1234ze의 양호한 에칭 특성을 해치지 않고, HFO-1234ze의 보존 안정성을 향상시켜 산성 물질의 발생을 억제하여, 보존 용기나 배
1,3,3,3-테트라플루오로프로펜과, CHxClyFz(x, y, z는 1 이상의 정수, x+y+z=4)로 나타나는 하이드로클로로플루오로카본을 포함하고,1,3,3,3-테트라플루오로프로펜에 대한 상기 하이드로클로로플루오로카본의 농도가 3체적ppm 이상 10000체적ppm 미만이며,상기 하이드로클로로플루오로카본이 클로로디플루오로메탄인 드라이 에칭제 조성물.
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