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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-7032500 (2019-11-01) | |
공개번호 | 10-2019-0126458 (2019-11-11) | |
우선권정보 | 미국(US) 62/486,411 (2017-04-17) | |
국제출원번호 | PCT/US2018/027997 (2018-04-17) | |
국제공개번호 | WO 2018/195096 (2018-10-25) | |
번역문제출일자 | 2019-11-01 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020197032500 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-11-01) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 적어도 하나의 표면에 교정 패턴을 갖는 교정 타겟을 제공한다. 패턴 상의 교정 특징들의 위치의 관계는 교정 타겟(calibration target)에 대해 결정되고, 교정 비전 시스템에 의해 교정 절차 동안 사용을 위해 저장된다.교정 타겟의 특징 관계에 대해 아는 것은, 상기 교정 비전이 단일 포즈로 교정 타겟을 이미지화하고, 미리 결정된 좌표 공간에서 교정 특징 각각을 재발견할 수 있게 한다. 상기 교정 비전은 저장된 데이터로부터의 특징들 사이의 관계를 교정 비전 시스템의 로컬 좌표 공간으로 변환할 수 있다. 상기 위치
비전 시스템의 로컬 좌표 공간으로 교정 특징들을 매핑하는 이미지 변환을 생성하기 위한 방법에 있어서,교정 타겟의 제1 표면 및 상기 교정 타겟의 제2 표면에 대한 제1 이미지를 획득하는 단계 - 상기 제1 표면은 제1 교정 패턴(calibration pattern)을 구비하고, 상기 제2 표면은 제2 교정 패턴을 구비함 -;상기 제1 이미지로부터 교정 특징들의 측정된 상대적 위치들을 식별하는 단계;상기 제1 교정 패턴 및 상기 제2 교정 패턴에 대한 교정 특징들의 정확한 상대적 위치들을 정의하는 적어도 하나의 데이터 소스로부터 교정
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