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[한국특허] 극자외선용 반사형 블랭크 마스크 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-001/52
  • G03F-001/22
출원번호 10-2020-0002546 (2020-01-08)
공개번호 10-2021-0089406 (2021-07-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020200002546
발명자 / 주소
  • 신철 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 이종화 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 양철규 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 공길우 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
출원인 / 주소
  • 주식회사 에스앤에스텍 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
대리인 / 주소
  • 허성원; 이동욱; 서동헌
심사청구여부 있음 (2020-01-08)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

EUV 용 블랭크마스크는, 기판 상에 적층된 반사막, 반사막 상에 적층된 흡수막을 구비한다.상기 반사막은, Ru 로 구성되거나 Ru 에 Mo, Nb, Zr 중 하나 이상의 원소가 추가된 Ru 화합물로 구성된 제1층, 및 Si 로 구성된 제2층이 교번적으로 적층된 다층막 구조를 갖는다.다층 구조의 반사막을 구비한 EUV 용 블랭크마스크에서 반사막을 구성하는 각 층들 사이의 층간확산(interdiffusion)이 억제된다.

대표청구항

기판, 상기 기판 상에 적층된 반사막, 상기 반사막 상에 적층된 흡수막을 포함하는 EUV 용 블랭크마스크로서,상기 반사막은, Ru 로 구성되거나 Ru 에 Mo, Nb, Zr 중 하나 이상의 원소가 추가된 Ru 화합물로 구성된 제1층, 및 Si 로 구성된 제2층이 교번적으로 적층된 다층막 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 EUV 용 블랭크마스크.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] EUV 광학 요소의 캡핑 층 | 싱맨디프, 비서휴고마트휴
  2. [한국] 비정질 층들을 갖는 극 자외선 반사 엘리먼트 및 그 제조 방법 | 하산, 비나야크 비쉬와나쓰, 호프만, 랄프, 비즐리, 카라, 포아드, 마지드 에이.
  3. [일본] METHODS FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE | KOSAKAI HIROFUMI, ONOE TAKAHIRO
  4. [일본] METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK | YAMADA TAKAYUKI, HOSOYA MORIO
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