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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0027599 (2020-03-05) | |
등록번호 | 10-2143590-0000 (2020-08-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200027599 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-03-05) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 열충격에 강한 피막 형성을 위한 아노다이징 표면 처리 공정에 관한 것이다.본 발명에 따른 열충격에 강한 피막 형성을 위한 아노다이징 표면 처리 공정은 장벽층(Barrier layer) 형성 단계, 기공(Pore) 형성 단계 및 다공질층(Porous layer) 형성 단계로 이루어지는 피막 형성 단계를 포함하는 아노다이징 표면 처리 공정에 있어서, 상기 아노다이징 표면 처리 공정에서 전기장은 정전류 3.2A를 인가하며, 전해액은 수산(H2C2O4) 40g/L 및 구연산 90g/L 농도의 혼합 용액을 포함하며, 상기 전해액은
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