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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0034324 (2020-03-20) | |
등록번호 | 10-2132216-0000 (2020-07-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200034324 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-03-20) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 기판 전면에 대해 공정이 균일하게 이루어지도록 하는 CVD 공정의 샤워헤드에 관한 것으로, 외부로부터 가스를 공급받는 가스 유입부, 상기 가스 유입부로 전달받은 가스를 외부로 분사하도록 관통되는 복수개의 가스 분배홀이 형성된 헤드부, 상기 헤드부에 안착되어 상기 헤드부의 온도를 상승시키도록 열원을 공급하고, 내부에 일측이 개방된 반경이 다른 동심원 형태로 내측 및 외측에 일정 간격 이격되어 단일 라인으로 형성되도록 개방된 일측이 연결부에 의해 연결된 히터부를 구비하는 히터블록, 및 상기 히터블록과 헤드부 사이에 위치하여
CVD 공정의 샤워헤드에 있어서, 외부로부터 가스를 공급받는 가스 유입부;상기 가스 유입부로 전달받은 가스를 외부로 분사하도록 관통되는 복수개의 가스 분배홀이 형성된 헤드부;상기 헤드부에 안착되어 상기 헤드부의 온도를 상승시키도록 열원을 공급하고, 내부에 일측이 개방된 반경이 다른 동심원 형태로 내측 및 외측에 일정 간격 이격되어 단일 라인으로 형성되도록 개방된 일측이 연결부에 의해 연결된 히터부를 구비하는 히터블록; 및상기 히터블록과 헤드부 사이에 위치하여 히터블록에 의해 가해지는 열원을 헤드부 전체에 균일하게 분포하도록 하는 써
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