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연합인증

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샤워헤드 및 이를 포함하는 프로세스 챔버 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록실용신안
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/67
  • C23C-016/44
  • H01L-021/02
출원번호 20-2020-7000012 (2020-02-28)
공개번호 20-2020-0000582 (2020-03-13)
등록번호 20-0495609-0000 (2022-07-04)
우선권정보 미국(US) 62/543,888 (2017-08-10);미국(US) 15/847,339 (2017-12-19)
국제출원번호 PCT/US2018/044362 (2018-07-30)
국제공개번호 WO 2019/032324 (2019-02-14)
번역문제출일자 2020-02-28
DOI http://doi.org/10.8080/2020207000012
발명자 / 주소
  • 산체스, 마리오 단 / 미국 ***** 캘리포니아 새너제이 히비스커스 플레이스 ***
  • 라쉬드, 무함마드 엠. / 미국 ***** 캘리포니아 새너제이 비비 서클 ****
출원인 / 주소
  • 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 / 미국 ***** 캘리포니아 산타 클라라 바우어스 애브뉴 ****
대리인 / 주소
  • 특허법인 남앤남
심사청구여부 있음 (2020-02-28)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록 ▼

샤워헤드들 및 이를 포함하는 프로세스 챔버들이 본원에서 제공된다.일부 실시예들에서, 샤워헤드는, 중심 부분 및 외측 부분을 갖는 몸체 ― 외측 부분은 중심 부분으로부터 상향으로 연장되는 환상형 벽 및 환상형 벽으로부터 반경방향 외향으로 연장되는 플랜지를 포함함 ―; 중심 부분을 관통하여 배치된 복수의 애퍼처들; 복수의 애퍼처들 중 최외측 애퍼처들의 반경방향 외향으로 그리고 외측 부분의 반경방향 내향으로 배치된 환상형 단차 부분; 샤워헤드의 중심 축을 중심으로 배열되고 외측 부분의 주변부에 형성된 복수의 포지셔닝 피처들; 및 중심 축

대표청구항 ▼

샤워헤드로서,중심 부분 및 외측 부분을 갖는 몸체 ― 상기 외측 부분은 상기 중심 부분으로부터 상방으로 연장되는 환상형 벽(annular wall) 및 상기 환상형 벽으로부터 반경방향 외향으로 연장되는 플랜지(flange)를 포함함 ―;상기 중심 부분을 관통하여 배치된 복수의 애퍼처들 ― 상기 복수의 애퍼처들 각각은 카운터싱크(countersink) 부분 및 구멍 부분을 갖고, 상기 카운터싱크 부분은 상기 중심 부분의 최하부 표면을 관통하여 형성되며, 상기 구멍 부분은 상기 중심 부분의 최상부 표면을 관통하여 형성되고, 상기 카운터

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. [한국] 포토레지스트 스트립 및 포스트 금속 식각 패시배이션을 위한 고온 챔버 공정 및 챔버 설계 | 왕 잉-옌 알버트, 케비 로버트
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  2. [한국] 화학기상증착 장치 | 허윤성, 박승일
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  3. [한국] 전기도금 장치용 교차류 매니폴드 | 아브라함 리차드, 메이어 스티븐 티, 버클류 브라이언 엘, 레쉬 로버트
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  4. [한국] 용량 결합형 플라즈마를 이용하는 반도체 프로세싱 시스템 및 방법들 | 양, 장규, 밀러, 매튜 엘., 첸, 싱롱, 척, 키엔 엔., 리앙, 퀴웨이, 벤카타라만, 샨카르, 루보미르스키, 드미트리
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  5. [미국] ATOMIC LAYER DEPOSITION CHAMBER WITH FUNNEL-SHAPED GAS DISPERSION CHANNEL AND GAS DISTRIBUTION PLATE | RASHEED, Muhammad M., GANDIKOTA, Srinivas, SANCHEZ, Mario Dan, JIAN, Guoqiang, YANG, Yixiong, JADHAV, Deepak, AGARWAL, Ashutosh
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