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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0046598 (2020-04-17) | |
공개번호 | 10-2021-0128672 (2021-10-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200046598 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-04-17) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명의 일 측면에 따른 XRD 시료의 전처리 방법은 잔류 오스테나이트(retained austenite)를 포함하는 미세조직을 가지는 시료를 제공하는 단계; 및 상기 시료에 대하여 콜로이드 실리카(Colloidal Silica)를 이용한 폴리싱을 수행하는 단계; 를 포함한다.
잔류 오스테나이트(retained austenite)를 포함하는 미세조직을 가지는 시료를 제공하는 단계; 및상기 시료에 대하여 콜로이드 실리카(Colloidal Silica)를 이용한 폴리싱을 수행하는 단계; 를 포함하는,XRD 시료의 전처리 방법.
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