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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0102351 (2020-08-14) | |
공개번호 | 10-2021-0027099 (2021-03-10) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2019-155925 (2019-08-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200102351 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 에칭 구멍의 형상을 개선하며 또한 마스크 선택비를 향상시키는 것을 그 과제로 한다.본 발명에 따른 에칭 처리 방법은, 화합물을 준비하는 것과, 화합물이 존재하는 환경에서, 마스크막이 형성된 에칭 대상을 에칭하는 것을 포함하고, 에칭 대상을 에칭하는 것은, 에칭 대상이 질화규소(SiN)를 함유할 때에, 수소(H) 및 불소(F)가 존재하는 환경에서 에칭 대상을 에칭하는 공정을 포함하며, 에칭 대상이 규소(Si)를 함유할 때에, 질소(N), 수소(H) 및 불소(F)가 존재하는 환경에서 에칭 대상을 에칭하는 공정을 포함하고, 화
화합물을 준비하는 것과,상기 화합물이 존재하는 환경에서, 마스크막이 형성된 에칭 대상을 에칭하는 것을 포함하고,상기 에칭 대상을 에칭하는 것은,상기 에칭 대상이 질화규소(SiN)를 함유할 때에, 수소(H) 및 불소(F)가 존재하는 환경에서 상기 에칭 대상을 에칭하는 공정을 포함하고,상기 에칭 대상이 규소(Si)를 함유할 때에, 질소(N), 수소(H) 및 불소(F)가 존재하는 환경에서 상기 에칭 대상을 에칭하는 공정을 포함하고,상기 화합물은 탄소(C)와, 염소(Cl)와 브롬(Br)과 요오드(I)로 이루어지는 집합에서 선택되는 적어도
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