초록 ▼

CDA(clean dry air) 공급라인에 연결된 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템이 제공된다. 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템은 하나 이상의 화학약품 탱크로부터 공급되는 화학약품을 반도체 처리 장치로 공급하는 하나 이상의 공급배관이 지나도록 구성되며, 하나 이상의 공급배관에서 화학약품의 누출을 감지하는 복수의 리크 센서를 포함하는 화학약품 공급 장치와, 화학약품 공급 장치 내부의 공기가 배출되는 배기용 배관에 설치되어 압축공기 주입시에 배기를 활성화시키는 배기활성부와, 배기활성부와 CDA 공급라인 사이에 설치되어, CD

CDA(clean dry air) 공급라인에 연결된 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템이 제공된다. 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템은 하나 이상의 화학약품 탱크로부터 공급되는 화학약품을 반도체 처리 장치로 공급하는 하나 이상의 공급배관이 지나도록 구성되며, 하나 이상의 공급배관에서 화학약품의 누출을 감지하는 복수의 리크 센서를 포함하는 화학약품 공급 장치와, 화학약품 공급 장치 내부의 공기가 배출되는 배기용 배관에 설치되어 압축공기 주입시에 배기를 활성화시키는 배기활성부와, 배기활성부와 CDA 공급라인 사이에 설치되어, CDA 공급라인으로부터의 압축공기가 유입되는 유입 배관에 설치되며 CDA 공급라인으로부터 공급되는 압축 공기의 유입을 조절하여 유입 배관의 공압을 제어하는 공압 제어부와, 복수의 리크 센서 중 적어도 하나의 리크 센서로부터 화학약품의 누출이 감지되는 경우, CDA 공급라인에 연결된 공압 제어부를 제어하여 화학약품 공급 장치 내부의 유해공기를 배기활성부를 통해 배기용 배관으로 긴급하게 배출하도록 제어하는 프로세서를 포함한다.

대표청구항 ▼

CDA(clean dry air) 공급라인에 연결된 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템으로서, 하나 이상의 화학약품 탱크로부터 공급되는 화학약품을 반도체 처리 장치로 공급하는 하나 이상의 공급배관이 지나도록 구성되며, 하나 이상의 공급배관에서 화학약품의 누출을 감지하는 복수의 리크 센서를 포함하는 화학약품 공급 장치; 화학약품 공급 장치 내부의 공기가 배출되는 배기용 배관에 설치되어 압축공기 주입시에 배기를 활성화시키는 배기활성부; 배기활성부와 CDA 공급라인 사이에 설치되어, CDA 공급라인으로부터의 압축공기가 유입되는 유입 배

CDA(clean dry air) 공급라인에 연결된 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템으로서, 하나 이상의 화학약품 탱크로부터 공급되는 화학약품을 반도체 처리 장치로 공급하는 하나 이상의 공급배관이 지나도록 구성되며, 하나 이상의 공급배관에서 화학약품의 누출을 감지하는 복수의 리크 센서를 포함하는 화학약품 공급 장치; 화학약품 공급 장치 내부의 공기가 배출되는 배기용 배관에 설치되어 압축공기 주입시에 배기를 활성화시키는 배기활성부; 배기활성부와 CDA 공급라인 사이에 설치되어, CDA 공급라인으로부터의 압축공기가 유입되는 유입 배관에 설치되며 CDA 공급라인으로부터 공급되는 압축 공기의 유입을 조절하여 유입 배관의 공압을 제어하는 공압 제어부; 및 복수의 리크 센서 중 적어도 하나의 리크 센서로부터 화학약품의 누출이 감지되는 경우, CDA 공급라인에 연결된 공압 제어부를 제어하여 화학약품 공급 장치 내부의 유해공기를 배기활성부를 통해 배기용 배관으로 긴급하게 배출하도록 제어하는 프로세서를 포함하고,복수의 리크 센서는 화학약품 공급 장치 내부의 바닥에 설치되어 액체상태의 화학약품의 누출을 감지하는 하나 이상의 제1 리크 센서 및 화학약품 공급 장치 내부의 상단에 설치되어 기체 상태의 화학약품의 누출을 감지하는 제2 리크 센서를 포함하며,공압 제어부는 프로세서의 제어에 따라 전자식으로 공압을 조절하며 유입 배관을 통해 배기활성부에 연결되는 전자식 비례제어밸브와, 전자식 비례제어밸브와 CDA 공급라인 사이에 연결되어 CDA 공급라인에서 공급되는 압축공기의 공압을 조정하는 정압밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비의 긴급 배기 시스템.