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[한국특허] 실리카 입자의 분산액 및 그 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-033/141
출원번호 10-2020-7012488 (2020-04-28)
공개번호 10-2020-0087135 (2020-07-20)
등록번호 10-2647949-0000 (2024-03-12)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2017-221356 (2017-11-16)
국제출원번호 PCT/JP2018/042209 (2018-11-15)
국제공개번호 WO 2019/098257 (2019-05-23)
번역문제출일자 2020-04-28
DOI http://doi.org/10.8080/1020207012488
발명자 / 주소
  • 에가미 미키 / 일본국 후쿠오카켕 기타큐슈시 와카마츠쿠 기타미나토마치 **방 *고 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 기타큐슈지교쇼 나이
  • 구마자와 미츠아키 / 일본국 후쿠오카켕 기타큐슈시 와카마츠쿠 기타미나토마치 **방 *고 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 기타큐슈지교쇼 나이
  • 아라카네 히로타다 / 일본국 후쿠오카켕 기타큐슈시 와카마츠쿠 기타미나토마치 **방 *고 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 기타큐슈지교쇼 나이
  • 무라구치 료 / 일본국 후쿠오카켕 기타큐슈시 와카마츠쿠 기타미나토마치 **방 *고 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 기타큐슈지교쇼 나이
  • 히라이 도시하루 / 일본국 가나가와켄 가와사끼-시 사이와이-구 호리까와-초 *** 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 나이
출원인 / 주소
  • 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 / 일본국 가나가와켄 가와사끼-시 사이와이-구 호리까와-초 ***
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나
심사청구여부 있음 (2021-09-06)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

치밀화된 고순도 실리카 입자를 고농도로 포함하는, 입자가 응집하고 있지 않는 저점도의 분산액을 제공한다. 즉, 전자 현미경 사진으로부터 구한 평균 입자경이 5 ∼ 300 ㎚, 질소 흡착에 의한 BET 법에 의한 비표면적으로부터 구한 밀도 1.20 g/㎤ 이상의 실리카 입자를 포함하고, pH 가 8 미만, 실리카 농도가 12 ∼ 40 질량%, 실리카 농도 20 질량% 환산 점도가 40 mPa·s 이하인 실리카 입자의 분산액이다. 이 실리카 입자를 연마재로서 사용하면, 충분한 연마 속도와 스크래치의 발생이 억제된 평활한 연마면을 실현할

대표청구항

전자 현미경 사진으로부터 구한 평균 입자경이 5 ∼ 300 ㎚, 상기 평균 입자경과 질소 흡착에 의한 BET 법에 의한 비표면적으로부터 구한 밀도가 1.20 g/㎤ 이상 1.60 g/㎤ 미만이고, 알콕시기에서 유래하는 탄소량이 0.005 질량% 이상 0.50 질량% 미만인 실리카 입자를 포함하고, pH 가 8 미만, 실리카 농도가 12 ∼ 40 질량%, 실리카 농도 20 질량% 환산 점도가 40 mPa·s 이하, 상기 실리카 입자 이외의 규소를 포함하는 화합물의 양이 200 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 연마용 실리카 입자의 분

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [일본] METHOD FOR MANUFACTURING SILICA SOL | YOSHITAKE KEIKO, SAKAIDA HIROAKI, MIYAMOTO AI

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