초록 ▼

본 발명은 전지의 XRD 측정용 챔버 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 전지에 부여되는 온도 및 충방전의 조건을 실시간으로 변화 및 유지하면서 XRD(X-ray diffraction) 측정을 할 수 있는 전지의 XRD 측정용 챔버 장치를 제공하기 위한 것이다.본 발명의 전지의 XRD 측정용 챔버 장치는 전지를 내부에 수용하는 챔버 하우징; 입사과의 입사 방향인 제1 방향 상에서 챔버 하우징의 일측에 마련되며 입사광이 투과되는 제1 윈도우; 제1 방향 상에서 챔버 하우징의 타측에 마련되며 회절광이 투과되는 제2 윈도우; 챔버 하우징

본 발명은 전지의 XRD 측정용 챔버 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 전지에 부여되는 온도 및 충방전의 조건을 실시간으로 변화 및 유지하면서 XRD(X-ray diffraction) 측정을 할 수 있는 전지의 XRD 측정용 챔버 장치를 제공하기 위한 것이다.본 발명의 전지의 XRD 측정용 챔버 장치는 전지를 내부에 수용하는 챔버 하우징; 입사과의 입사 방향인 제1 방향 상에서 챔버 하우징의 일측에 마련되며 입사광이 투과되는 제1 윈도우; 제1 방향 상에서 챔버 하우징의 타측에 마련되며 회절광이 투과되는 제2 윈도우; 챔버 하우징 내부에서 전지를 정위치에 고정하는 지그부; 챔버 하우징 내부의 전지를 가열하는 히터 유닛; 챔버 하우징 내부 온도를 측정하는 서모커플; 및 챔버 하우징 내부의 전지와 챔버 하우징 외부의 충방전기를 전기적으로 연결하는 접속 유닛을 포함하는 것일 수 있다.

대표청구항 ▼

전지에 x선인 입사광을 제1 방향으로 조사하는 광원부와, 상기 입사광이 상기 전지를 통과하여 회절된 광인 회절광을 수광하는 수광부와, 상기 광원부 및 상기 수광부 사이에 상기 전지가 위치하는 샘플 스테이지를 포함하는 XRD 시스템에서 상기 전지를 내부에 수용한 상태로 상기 샘플 스테이지에 고정되는 전지의 XRD 측정용 챔버 장치에 있어서,상기 전지를 내부에 수용하는 챔버 하우징;상기 제1 방향 상에서 상기 챔버 하우징의 일측에 마련되며 상기 입사광이 투과되는 제1 윈도우;상기 제1 방향 상에서 상기 챔버 하우징의 타측에 마련되며 상

전지에 x선인 입사광을 제1 방향으로 조사하는 광원부와, 상기 입사광이 상기 전지를 통과하여 회절된 광인 회절광을 수광하는 수광부와, 상기 광원부 및 상기 수광부 사이에 상기 전지가 위치하는 샘플 스테이지를 포함하는 XRD 시스템에서 상기 전지를 내부에 수용한 상태로 상기 샘플 스테이지에 고정되는 전지의 XRD 측정용 챔버 장치에 있어서,상기 전지를 내부에 수용하는 챔버 하우징;상기 제1 방향 상에서 상기 챔버 하우징의 일측에 마련되며 상기 입사광이 투과되는 제1 윈도우;상기 제1 방향 상에서 상기 챔버 하우징의 타측에 마련되며 상기 회절광이 투과되는 제2 윈도우;상기 챔버 하우징 내부에서 상기 전지를 정위치에 고정하는 지그부;상기 챔버 하우징 내부의 상기 전지를 가열하는 히터 유닛;상기 챔버 하우징 내부 온도를 측정하는 서모커플; 및상기 챔버 하우징 내부의 상기 전지와 상기 챔버 하우징 외부의 충방전기를 전기적으로 연결하는 접속 유닛을 포함하는 것인 전지의 XRD 측정용 챔버 장치.