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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0006729 (2021-01-18) | |
공개번호 | 10-2021-0112238 (2021-09-14) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020200027099 (2020-03-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210006729 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 전지의 XRD 측정용 챔버 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 전지에 부여되는 온도 및 충방전의 조건을 실시간으로 변화 및 유지하면서 XRD(X-ray diffraction) 측정을 할 수 있는 전지의 XRD 측정용 챔버 장치를 제공하기 위한 것이다.본 발명의 전지의 XRD 측정용 챔버 장치는 전지를 내부에 수용하는 챔버 하우징; 입사과의 입사 방향인 제1 방향 상에서 챔버 하우징의 일측에 마련되며 입사광이 투과되는 제1 윈도우; 제1 방향 상에서 챔버 하우징의 타측에 마련되며 회절광이 투과되는 제2 윈도우; 챔버 하우징
전지에 x선인 입사광을 제1 방향으로 조사하는 광원부와, 상기 입사광이 상기 전지를 통과하여 회절된 광인 회절광을 수광하는 수광부와, 상기 광원부 및 상기 수광부 사이에 상기 전지가 위치하는 샘플 스테이지를 포함하는 XRD 시스템에서 상기 전지를 내부에 수용한 상태로 상기 샘플 스테이지에 고정되는 전지의 XRD 측정용 챔버 장치에 있어서,상기 전지를 내부에 수용하는 챔버 하우징;상기 제1 방향 상에서 상기 챔버 하우징의 일측에 마련되며 상기 입사광이 투과되는 제1 윈도우;상기 제1 방향 상에서 상기 챔버 하우징의 타측에 마련되며 상
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