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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0068495 (2021-05-27) | |
공개번호 | 10-2022-0160361 (2022-12-06) | |
등록번호 | 10-2656513-0000 (2024-04-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210068495 | |
발명자 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-05-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 CMP 슬러리 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 CMP 슬러리 조성물은, 연마입자를 포함하는 연마액; 및 첨가액;을 포함하고, 상기 첨가액은, 당알코올 성분 및 비이온성 폴리머를 포함하고, 상기 당알코올 성분의 몰 질량은 100 내지 180인 것이다.
연마입자를 포함하는 연마액; 및 첨가액;을 포함하고,상기 첨가액은, 당알코올 성분 및 비이온성 폴리머를포함하고,상기 당알코올 성분은 자일리톨이고,상기 비이온성 폴리머는 폴리에틸렌글리콜(PEG)이고,상기 당알코올 성분의 몰 질량(Molar mass, g/mol)은 100 내지 180인 것이고,상기 비이온성 폴리머의 중량평균 분자량은 2,500 내지 5,000인 것이고,제타전위는 +5 mV 내지 +70 mV의 범위인 것이고,실리콘 산화막의 연마율은 3,000 Å/min 내지 5,000 Å/min이고, 실리콘 질화막의 연마율은 100 Å
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