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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0108728 (2021-08-18) | |
등록번호 | 10-2363046-0000 (2022-02-10) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210108728 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-08-18) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 극초단 펄스 레이저, 특히 펨토초 레이저를 이용하여 마이크로 홀을 가공하는 방법에 관한 것으로, 박막시트의 분리와 적층에 사용되는 진공플레이트에 형성되는 마이크로 홀 내면의 표면 거칠기를 향상시키면서도 진원도와 원통도를 확보하여 마이크로 홀의 품질을 높이고, 가공속도의 향상에 따른 생산성을 극대화할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 펨토초 레이저를 이용한 마이크로 홀의 가공방법은, 박막 세라믹 시트, 박막 금속 시트, 박막 코팅 필름 등을 흡착하여 이송하고 적층하기 위한 상부금형에 형성되는 마이크로 홀의 가공방법에
박막 세라믹 시트, 박막 금속 시트, 박막 코팅 필름 등을 흡착하여 이송하고 적층하기 위한 상부금형에 형성되는 마이크로 홀의 가공방법에 있어서,상기 상부금형의 두께방향으로 n(n은 2이상의 자연수)개의 단층을 설정하고, 상기 단층 표면에 펨토초 레이저를 소정의 패턴으로 조사하여 차기의 단층까지의 두께로 홀을 2D 가공하고, Z축 방향으로 1/n 씩 상기 레이저의 초점을 하강시키면서 순차적으로 상기 단층에 상기 펨토초 레이저를 조사함으로써 홀을 천공하는 단계와;상기 홀의 내면을 따라 상기 펨토초 레이저를 3D 형상으로 조사함으로써 가
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