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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0122690 (2021-09-14) | |
공개번호 | 10-2023-0039407 (2023-03-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210122690 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-09-14) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 산화 처리를 통해 탄소 표면의 리튬 이온 유인력/축적 능력을 향상시킬 수 있는 간단하고 확장 가능하며 효율적인 표면 개질 전략을 제시한다. 처리 후 발달한 표면 기능기는 리튬 이온을 끌어당기는 사이트 역할을 한다. 고온에서 어닐링된 탄소(1000℃)는 전도성이 더 높고, 무질서한 구조는 카본 코팅된 실리콘 내부로 오가는 리튬 전달을 촉진한다. 표면 개질 결과, 산화 처리된 Si-C는 200 사이클 후 탄소 코팅된 Si NPs(1261 mA h g-1) 및 베어 Si NPs(961 mA h g-1)에 비해 높은 1575 m
실리콘 나노 입자(Si NPs) 표면에 폴리도파민을 코팅하고, 상기 폴리도파민이 코팅된 실리콘 나노 입자(Si NPs)에 대하여 탄화(Carbonization) 공정을 수행함으로써, 탄소가 코팅된 실리콘 나노 입자를 마련하는 단계; 및상기 탄소가 코팅된 실리콘 나노 입자에 산화 처리하여, 산화 처리된 탄소 코팅 실리콘 나노 입자를 마련하는 단계;를 포함하는실리콘-탄소 나노 복합체 제조방법.
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