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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0122921 (2021-09-15) | |
공개번호 | 10-2023-0039947 (2023-03-22) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210122921 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-09-15) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 다공성 카본이 표면 코팅된 Si 나노입자 리튬 음극판 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다공성 카본이 표면 코팅된 Si 나노입자 물질을 포함한 활물질 혼합물을 리튬 음극판에 도포함으로써, 고전기 전도성과 내구성을 향상시킬 수 있는 다공성 카본이 표면 코팅된 Si 나노입자 리튬 음극판 제조 방법에 관한 것이다.
다공성 카본이 표면 코팅된 Si 나노입자 리튬 음극판 제조 방법에 있어서,반응기에 실리콘 유기 화합물, 올레이아민(oleylamine), 1-옥타데센(1-octadecene)을 넣고 30분 내지 1시간 동안 초음파 분산을 수행하여 제1혼합물을 제조하고, 제조된 제1 혼합물을 별도의 용기에 보관하기 위한 제1초음파분산수행단계(S100);와이후, 반응기에 상기 제1 혼합물과 그래파이트(Graphite)와 올레이아민(oleylamine), 1-옥타데센(1-octadecene)을 넣고 30분 내지 1시간 동안 초음파 분산을 수행하여 제2
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