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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0154485 (2021-11-11) | |
공개번호 | 10-2023-0068563 (2023-05-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210154485 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-11-11) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 위상마스크에 관한 것으로, 대칭 또는 비대칭의 패턴을 갖는 고굴절률 물질로 이루어진 제1층 및 상기 제1층 상에 형성되며 탄성중합체로 이루어지는 제2층을 포함하는 위상마스크가 제공된다.본 발명의 위상마스크는 고굴절률 물질과 탄성중합체를 함께 구성하여, 입사광의 위상 및 회절 특성의 조절을 효과적으로 수행할 수 있는 동시에 노광 공정을 안정적으로 수행할 수 있다.
대칭 또는 비대칭의 패턴을 갖는 고굴절률 물질로 이루어진 제1층; 및상기 제1층 상에 형성되며 탄성중합체로 이루어지는 제2층;을 포함하는 위상마스크.
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