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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0185051 (2021-12-22) | |
등록번호 | 10-2417059-0000 (2022-06-30) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210185051 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-12-22) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 배치형 식각 장치는 밀폐된 반응 구조를 가지며, 물의 재액화 및 오버플로우 식각액이 다시 장치 내로 유입되어 식각액의 소실 없이 식각 공정을 수행하고, 실제 공정과 유사한 조건 하에 실험실 수준으로 식각 공정을 수행하여 반도체 제조의 식각 공정과 오차가 최소화되 식각액의 식각 성능에 대한 검증이 용이해진다.
식각액 검증시 실제 생산 라인과 실험실 규모와의 오차의 최소화가 가능하도록 밀폐된 형태를 갖는 배치형 식각 장치로서, 상기 배치형 식각 장치는,액상의 식각액이 수용된 반응기 본체;상기 반응기 본체를 감싸, 상기 반응기 본체 내부를 가열할 수 있는 히터;상기 상기 식각액 내부에 웨이퍼를 고정하기 위한 지그 및 홀더;상기 반응기 본체 내에서 임의로 증발되는 물을 재액화시키는 냉각기;상기 냉각기에서 재액화된 물 및 상기 반응기 본체에서 오버 플로우된 식각액을 수용하는 혼합 회수 탱크; 및상기 혼합 회수 탱크의 혼합 식각액을 상기 반응기
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