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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-7014746 (2021-05-14) | |
공개번호 | 10-2021-0090189 (2021-07-19) | |
우선권정보 | 유럽특허청(EPO)(EP) 18206667.0 (2018-11-16);유럽특허청(EPO)(EP) 19151377.9 (2019-01-11) | |
국제출원번호 | PCT/EP2019/078655 (2019-10-22) | |
국제공개번호 | WO 2020/099072 (2020-05-22) | |
번역문제출일자 | 2021-05-14 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020217014746 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
프레임; 및 프레임에 의해 지지되는 멤브레인을 포함하는 EUV 리소그래피를 위한 펠리클이 개시되고, 멤브레인은 금속 또는 반금속 층을 포함하며, 멤브레인은 적어도 ㎛2 당 5의 밀도로 기공들을 포함한다.멤브레인은 금속 또는 반금속 층을 지지하는 기판 층을 가질 수 있으며, 기판 층은 예를 들어 실리콘 온 인슐레이터로부터 얻어진 실리콘 또는 폴리실리콘을 포함한다.
EUV 리소그래피를 위한 펠리클(pellicle)로서,프레임; 및상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하고, 상기 멤브레인은:금속 또는 반금속 층을 포함하며,상기 멤브레인은 적어도 ㎛2 당 5의 밀도로 기공(pore)들을 포함하는 펠리클.
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