본 발명의 박막 제조 장치는, 밀폐 가능한 챔버 내를 이동하는 기판의 일면에 성막 입자를 부착시켜 박막을 성막하는 장치에 있어서, 플라즈마 발생부와, 기판 이동부와, 성막원 공급부와, 성막 영역 규정부를 가진다.상기 플라즈마 발생부가, 상기 기판의 타면측에 위치하는 마그넷과, 상기 기판의 일면 근방에 성막 가스를 공급하는 가스 공급부를 가진다.상기 성막 영역 규정부가, 상기 기판의 일면 근방에 위치하여 개구를 가지는 차폐부를 가진다.상기 차폐부가, 상기 플라즈마 발생부에서 발생시키는 플라즈마의 상기 기판의 일면에 따른 방향에서의 지
본 발명의 박막 제조 장치는, 밀폐 가능한 챔버 내를 이동하는 기판의 일면에 성막 입자를 부착시켜 박막을 성막하는 장치에 있어서, 플라즈마 발생부와, 기판 이동부와, 성막원 공급부와, 성막 영역 규정부를 가진다.상기 플라즈마 발생부가, 상기 기판의 타면측에 위치하는 마그넷과, 상기 기판의 일면 근방에 성막 가스를 공급하는 가스 공급부를 가진다.상기 성막 영역 규정부가, 상기 기판의 일면 근방에 위치하여 개구를 가지는 차폐부를 가진다.상기 차폐부가, 상기 플라즈마 발생부에서 발생시키는 플라즈마의 상기 기판의 일면에 따른 방향에서의 지름 치수에 대한, 상기 개구의 지름 치수의 비가, 110/100 이하의 범위로 설정된다.
대표청구항▼
밀폐 가능한 챔버 내를 이동하는 기판의 일면에 성막 입자를 부착시켜 박막을 성막하는 장치에 있어서,상기 챔버 내에 플라즈마를 발생하는 플라즈마 발생부와,상기 챔버 내에서 상기 기판을 이동시키는 기판 이동부와,상기 기판의 일면을 향해 성막 입자를 공급하는 성막원 공급부와,상기 성막원 공급부로부터 상기 기판의 일면에 대한 상기 성막 입자에 의한 성막 영역을 제한하는 성막 영역 규정부를 가지고,상기 플라즈마 발생부가, 상기 기판의 타면측에 위치하는 마그넷과,상기 기판의 일면 근방에 성막 가스를 공급하는 가스 공급부를 가지고,상기 성막 영
밀폐 가능한 챔버 내를 이동하는 기판의 일면에 성막 입자를 부착시켜 박막을 성막하는 장치에 있어서,상기 챔버 내에 플라즈마를 발생하는 플라즈마 발생부와,상기 챔버 내에서 상기 기판을 이동시키는 기판 이동부와,상기 기판의 일면을 향해 성막 입자를 공급하는 성막원 공급부와,상기 성막원 공급부로부터 상기 기판의 일면에 대한 상기 성막 입자에 의한 성막 영역을 제한하는 성막 영역 규정부를 가지고,상기 플라즈마 발생부가, 상기 기판의 타면측에 위치하는 마그넷과,상기 기판의 일면 근방에 성막 가스를 공급하는 가스 공급부를 가지고,상기 성막 영역 규정부가, 상기 기판의 일면 근방에 위치하여 개구를 가지는 차폐부를 가지고,상기 플라즈마 발생부에서 발생시키는 플라즈마의 발생 영역의 상기 기판의 이동 방향에 따른 지름 치수는, 상기 마그넷의 상기 기판의 이동 방향에 따른 외경에 의해 규정되고,상기 마그넷의 외경에 대한, 상기 개구의 상기 기판의 이동 방향에서의 지름 치수의 비는, 110/90 이하의 범위로 설정되고,상기 플라즈마 발생부에서 발생시키는 플라즈마의 발생 영역은, 상기 마그넷의 형상에 대응하는 상기 플라즈마의 활성도에 따라, 기준값 이상의 활성도를 나타내는 플라즈마 영역(p0), 및 상기 플라즈마 영역(p0) 사이의 기준값 미만의 활성도를 나타내는 내측영역(p2)로 구분되고, 기준값 미만의 활성도를 나타내는 외측영역(p1)에 의해 둘러싸여 있고,상기 기판이 외측영역(p1), 플라즈마 영역(p0), 내측영역(p2), 플라즈마 영역(p0) 및 외측영역(p1)의 순으로 이동할 때, 상기 기판이 상기 플라즈마 영역(p0)을 이동하는 거리와, 상기 기판이 상기 외측영역(p1) 및 상기 내측영역(p2)을 이동하는 거리의 비율은, 상기 기판의 이동 방향에 직교하는 방향에서 균일해지도록 설정되는박막 제조 장치.
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