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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-7019894 (2021-06-25) | |
공개번호 | 10-2021-0087547 (2021-07-12) | |
등록번호 | 10-2616707-0000 (2023-12-18) | |
우선권정보 | 미국(US) 16/265,186 (2019-02-01) | |
국제출원번호 | PCT/US2020/012503 (2020-01-07) | |
국제공개번호 | WO 2020/159674 (2020-08-06) | |
번역문제출일자 | 2021-06-25 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020217019894 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-06-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 공개 |
본원에 설명된 실시예들은 기판의 플라즈마 보조 프로세싱 동안 기판의 원주 에지 근처에서의 프로세싱 결과 프로파일을 제어하는 데 사용되는 방법들 및 장치를 제공한다.일 실시예에서, 기판 지지 조립체는 제1 베이스 플레이트, 및 제1 베이스 플레이트를 둘러싸는 제2 베이스 플레이트를 특징으로 한다.제1 및 제2 베이스 플레이트들 각각은 내부에 배치된 하나 이상의 각각의 제1 및 제2 냉각 채널들을 갖는다.기판 지지 조립체는 추가로, 제1 베이스 플레이트 상에 배치되고 제1 베이스 플레이트에 열적으로 결합된 기판 지지부, 및 제2 베이스
기판 지지 조립체로서,내부에 배치된 하나 이상의 제1 냉각 채널들을 갖는 제1 베이스 플레이트; 상기 제1 베이스 플레이트의 가장 바깥쪽 직경을 둘러싸는 제2 베이스 플레이트 ― 상기 제2 베이스 플레이트는 내부에 배치된 하나 이상의 제2 냉각 채널들을 가짐 ―;상기 제1 베이스 플레이트 상에 배치되고 상기 제1 베이스 플레이트에 열적으로 결합된 기판 지지부;상기 제2 베이스 플레이트 상에 배치되고 상기 제2 베이스 플레이트에 열적으로 결합된 바이어싱 링(biasing ring) ― 상기 바이어싱 링은 유전체 재료로 형성됨 ―;상기
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