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성막 장치, 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-014/54
  • H01L-051/00
출원번호 10-2022-0021229 (2022-02-18)
공개번호 10-2022-0123578 (2022-09-08)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2021-031711 (2021-03-01)
DOI http://doi.org/10.8080/1020220021229
발명자 / 주소
  • 와타베 아라타 / 일본국 니이가타켄 미쓰케시 신코초 **반 *고 캐논 톡키 가부시키가이샤 내
  • 오가타 토시히로 / 일본국 니이가타켄 미쓰케시 신코초 **반 *고 캐논 톡키 가부시키가이샤 내
출원인 / 주소
  • 캐논 톡키 가부시키가이샤 / 일본국 니이가타켄 미쓰케시 신코초 **반 *고
대리인 / 주소
  • 이광직; 윤승환
심사청구여부 있음 (2022-02-18)
법적상태 공개

초록

[과제] 증착 재료의 방출량의 측정값에 기초하여 성막 동작을 제어하는 성막 장치에 있어서 성막의 정밀도를 향상시킨다.[해결 수단] 기판에 증착 재료를 증착하여 성막을 행하는 성막 장치로서, 증착 재료를 방출하는 증발원으로부터의 증착 재료의 방출량을 측정하는 모니터 수단과, 기판에 있어서의 증착 재료의 막 두께를 측정하는 막 두께 측정 수단을 구비하고, 모니터 수단에 의한 방출량의 측정값에 기초하여 제어되고 있는 성막 동작을, 막 두께 측정 수단에 의한 막 두께의 측정값에 기초하여 교정하는 것을 특징으로 하는 성막 장치를 사용한다.

대표청구항

기판에 증착 재료를 증착하여 성막을 행하는 성막 장치로서,상기 증착 재료를 방출하는 증발원으로부터의 상기 증착 재료의 방출량을 측정하는 모니터 수단과,상기 기판에 있어서의 상기 증착 재료의 막 두께를 측정하는 막 두께 측정 수단을 구비하고,상기 모니터 수단에 의한 상기 방출량의 측정값에 기초하여 행해지고 있는 성막 제어를, 상기 막 두께 측정 수단에 의한 상기 막 두께의 측정값에 기초하여 교정하는 것을 특징으로 하는 성막 장치.

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 성막 장치 및 성막 장치의 제어 방법 | 소에다 유우지로우
  2. [일본] DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT | KISHISHITA HIROKI, KANO HIROSHI, MORI KEIZO
  3. [일본] VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD | KOISHIZAKI TSUYOSHI, SUETSUGU DAISUKE, YAMAMOTO MASAHIRO
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