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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0024565 (2022-02-24) | |
공개번호 | 10-2023-0127020 (2023-08-31) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220024565 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 SiOx 탄소 코팅 입자 및 상기 SiOx 탄소 코팅 입자의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하는 방법으로, 실리콘 성장로에서 포집한 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.
실리콘 성장로에서 발생하는 실리콘 산화물(SiOx) 흄(fume)을 재활용하여,상기 실리콘 산화물(SiOx) 흄을 탄소로 코팅한 SiOx 탄소 코팅 입자.
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