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연합인증

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그래핀 양자점 및 이의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-032/184
  • C09K-011/02
  • C09K-011/65
  • D01F-001/10
출원번호 10-2022-0041305 (2022-04-01)
등록번호 10-2473056-0000 (2022-11-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020220041305
발명자 / 주소
  • 정성욱 / 경상남도 김해시 율하*로 **, ***동 ****호
  • 이재진 / 경상남도 창원시 의창구 용동로**번길 **, ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 헥사에프아이씨 / 경상남도 창원시 의창구 용동로**번길 **, ***호
대리인 / 주소
  • 김규훈
심사청구여부 있음 (2022-04-01)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

실시예는 비극성 용매 내에 물, 탄소 전구체 및 계면활성제를 포함하는 미셀이 분산된미셀 용액을 제조하는 단계; 및 상기 미셀 용액을 가열하여, 그래핀 코어를 제조하는 단계를 포함하는 그래핀 양자점을 제조하는 방법.를 포함하는 그래핀 양자점을 제조하는 방법을 제공하고자 한다.

대표청구항

비극성 용매 내에 물, 탄소 전구체 및 계면활성제를 포함하는 미셀이 분산된미셀 용액을 제조하는 단계; 및상기 미셀 용액을 가열하여, 그래핀 코어를 제조하는 단계를 포함하고,상기 미셀은 상기 물에 용해된 촉매를 더 포함하고,상기 촉매는 질산구리수화물 및 질산알루미늄수화물을 포함하는 그래핀 양자점을 제조하는 방법.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 균일한 크기를 가지는 탄소 양자점 제조 방법 | 이시우, 권우성
  2. [한국] 그래핀 양자점의 제조방법, 상기 제조방법에 따라 얻어진 그래핀 양자점을 포함한 하드마스크 조성물, 이를 이용한 패턴의 형성방법 및 상기 하드마스크 조성물을 이용하여 형성된 하드마스크 | 김상원, 설민수, 신현진, 이동욱, 이윤성, 정성준, 정아름
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