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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2022-0052101 (2022-04-27) | |
| 공개번호 | 10-2023-0152401 (2023-11-03) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020220052101 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 법적상태 | 공개 |
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하기 위한 처리 공간이 구비된 챔버; 적어도 어느 하나의 상기 챔버의 벽체에 설치되어, 상기 벽체와 상기 벽체에 설치된 면 사이에 밀폐된 단열 공간이 형성되는 단열 플레이트; 상기 단열 공간에 진공을 형성하기 위하여 배기를 수행하는 배기부; 및 상기 단열 공간이 밀폐되도록 상기 챔버의 벽체 및 상기 단열 플레이트를 동시에 관통하는 관통부재;를 포함한다.
기판을 처리하기 위한 처리 공간이 구비된 챔버;적어도 어느 하나의 상기 챔버의 벽체에 설치되어, 상기 벽체와 상기 벽체에 설치된 면 사이에 밀폐된 단열 공간이 형성되는 단열 플레이트;상기 단열 공간에 진공을 형성하기 위하여 배기를 수행하는 배기부; 및상기 단열 공간이 밀폐되도록 상기 챔버의 벽체 및 상기 단열 플레이트를 동시에 관통하는 관통부재;를 포함하는, 기판 처리 장치.
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