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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0115697 (2022-09-14) | |
등록번호 | 10-2595484-0000 (2023-10-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220115697 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-09-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 테레프탈로일 클로라이드 제조방법에 관한 것으로써, 라디칼 개시제 대신에 광염소화 방법을 도입하여 중간원료인 헥사클로로파라자일렌의 순도를 향상시킬 수 있으며, 상기 광염소화 방법 도입 시 염소가스의 순환시스템을 도입하여 상기 염소가스가 외부로 배출되지 않는 테레프탈로일 클로라이드 제조방법을 제공하는 것이다.
파라자일렌과 염소가스를 광 반응시켜 헥사클로로파라자일렌을 제조방법에 있어서, 상기 광 반응에 투입되는 광량은 100 내지 1,800 LUX이며, 광 조사 면적은 30 cm2/파라자일렌Kg이하인 것인, 헥사클로로파라자일렌의 제조방법.
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